专利查询
首页
专利评估
登录
注册
ASML荷兰有限公司专利技术
ASML荷兰有限公司共有1620项专利
用于调节带电粒子的束状态的方法和设备技术
公开了用于调节带电粒子的束状态的设备和方法。根据某些实施例,该设备包括在孔上方移位的一个或多个第一多极透镜,该一个或多个第一多极透镜被配置为调节穿过孔的带电粒子束的束电流。该设备还包括在孔下方移位的一个或多个第二多极透镜,该一个或多个第...
光学高度检测系统技术方案
带电粒子束检查系统中的光学高度检测系统。光学高度检测系统包括投影单元和检测单元,投影单元包括调制照射源、包含投影光栅图案的投影光栅掩模以及用于将投影光栅图案投影到样本的投影光学单元;检测单元包括包含第一检测光栅图案的第一检测光栅掩模、包...
干涉测量台定位装置制造方法及图纸
一种用于电子束检查装置的台装置,包括:载物台(3),其包括支撑表面,该载物台被配置为将衬底(190)支撑在该支撑表面上;定位设备(180),其被配置为定位载物台;位置测量系统(5),其包括位置传感器(8?10),该位置传感器被配置为测量...
用于确定辐射的束的对齐属性的方法和装置制造方法及图纸
提供了一种确定由辐射源发射的辐射的照射束的一个或多个对齐属性的方法和一种用于在确定由辐射源发射的辐射的照射束的一个或多个对齐属性中使用的装置。所述照射束用于辐照量测装置中的衬底上的目标区域。方法包括:(a)获得第一组强度数据;(b)获得...
用于补偿曝光过程中的曝光误差的方法技术
一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法,光刻设备包括衬底台,该方法包括:获得剂量测量,剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量,其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量;以及使用剂量测量来控制...
带电粒子束检查的样品检查选配方案的动态确定组成比例
本文中公开了一种方法,该方法包括:基于样品的第二组特性确定对样品上的区域的带电粒子束检查的选配方案的参数;使用该选配方案检查该区域。
带电粒子的多单元检测器制造技术
一种多单元检测器包括第一层(420),其具有第一导电类型的区域(422);以及第二层(440),其包括第二导电类型的多个区域(444)。第二层还可以包括第一导电类型的一个或多个区域(442)。第二导电类型的多个区域优选地可以通过第二层的...
用于晶圆检查的高级充电控制器的方法和设备技术
提供了一种用于光束的高级充电控制的系统和方法。该系统包括:激光源,包括用于发射束的激光二极管;以及束均匀器,用于均匀所发射的束。系统和方法还包括:束成形器,被配置为使用变形棱镜组对发射的束进行整形;以及驱动器,被配置为将成形的束引导到晶...
用于带电粒子束检查的样本预充电方法和设备技术
本文公开了一种设备,该设备包括:带电粒子源,被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束;聚束透镜,被配置为使得束围绕主束轴集中;开孔;第一多极透镜;第二多极透镜;其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游;其中第二...
辐射源制造技术
超连续谱辐射源包括:辐射源、光学放大器和非线性光学介质。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。光学放大器配置成接收脉冲辐射束并增加脉冲辐射束的强度。非线性光学介质被配置为接收被放大的脉冲辐射束,并展宽该被放大的脉冲辐射束的光谱,从而产生超连续...
光刻方法技术
公开了一种用于确定传感器系统的操作参数的一个或多个经优化的值的方法,该传感器系统被配置为测量衬底的性质,该方法包括:确定针对多个衬底的质量参数;针对操作参数的多个值,确定使用传感器系统而被获取的针对多个衬底的测量参数;将质量参数的衬底到...
具有补偿透镜的光学系统技术方案
一种在带电粒子束检查系统中使用的光学系统。光学系统包括一个或多个光学透镜和补偿透镜,补偿透镜被配置为对一个或多个光学透镜的组合的焦距从第一介质到第二介质的漂移进行补偿。
确定器件制造工艺的控制参数的方法技术
本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法,该制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺,该方法包括:获取衬底的至少一部分的图像,其中该图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征;取决于从图像确定的轮廓,计算一个...
辐射源制造技术
一种辐射源包括:发射器,用于朝向等离子体形成区发射燃料目标;激光系统,用于用激光束撞击目标以产生等离子体;收集器,用于收集由等离子体发射的辐射;成像系统,配置成捕获目标的图像;在所述收集器处并在成像系统的视场内的一个或更多个标识;和控制...
用于确定图案化过程参数的方法技术
一种用于确定图案化过程参数的方法,该方法包括:针对目标,从利用包括中心波长的辐射照射该目标所获得的数据计算中间参数的第一值;针对该目标,从利用包括两种不同中心波长的辐射照射该目标所获得的数据计算该中间参数的第二值;并且基于该中间参数的第...
辐射源制造技术
一种辐射源配置成提供EUV辐射,所述辐射源包括燃料发射器和激光系统。燃料发射器配置成将燃料目标提供至等离子体形成区。激光系统被配置为当燃料目标位于等离子体形成区时用激光辐射照射燃料目标,以便将燃料目标的一部分转换成等离子体。特别地,激光...
带电粒子阻挡元件、包括这样的元件的曝光装置以及使用这样的曝光装置的方法制造方法及图纸
本发明涉及用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置和方法。曝光装置包括带电粒子光学装置,该带电粒子光学装置包括用于生成带电粒子束的带电粒子源和用于阻挡来自带电粒子源的带电粒子束的至少一部分的带电粒子阻挡元件和/或限流元件。带电粒子阻挡元件...
用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置制造方法及图纸
一种具有密封件的容器,密封件受到一定体积的气体的保护而免受容器内液体材料的侵害。容器具有分隔件,分隔件将容器划分为两个容积空间,使得通过第一容积空间中的一定体积的气体来保护与第一容积空间气体连通的密封件免受第二容积空间中的液体材料的侵害。
针对射束图像系统的开关矩阵设计技术方案
公开了用于实施检测器阵列(600)的系统和方法。根据某些实施例,衬底(600)包括多个感测元件(600?613),多个感测元件(600?613)包括第一元件(611)和第二元件(612)。检测器包括开关元件(619),开关元件(619)...
现场可编程检测器阵列制造技术
公开了用于实现检测器阵列的系统和方法。根据某些实施例,衬底包括多个感测元件(501?503),其包括第一元件(502)和第二元件(503);以及在第一元件与第二元件之间的开关区域(3009),被配置为连接第一元件和第二元件。基于响应于感...
1
2
3
4
5
6
7
8
>>
尾页
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
70859
国家电网公司
59555
中兴通讯股份有限公司
54565
中国石油化工股份有限公司
50238
三星电子株式会社
46905
浙江大学
45619
珠海格力电器股份有限公司
45098
松下电器产业株式会社
34541
清华大学
32175
华南理工大学
30709
最新更新发明人
天津市津南干燥设备有限公司
24
广东万和电气有限公司
467
续客商城深圳有限公司
29
奥克斯空调股份有限公司
2461
中山百得厨卫有限公司
144
金华联创塑粉科技有限公司
30
江苏领坤生物科技有限公司
19
上海加力气体有限公司
26
凡哲州
2
衢州强宝纳米科技有限公司
3
江苏11选5-下注