辐射源制造技术

技术编号:24106076 阅读:18 留言:0更新日期:2020-05-09 17:24
一种辐射源包括:发射器,用于朝向等离子体形成区发射燃料目标;激光系统,用于用激光束撞击目标以产生等离子体;收集器,用于收集由等离子体发射的辐射;成像系统,配置成捕获目标的图像;在所述收集器处并在成像系统的视场内的一个或更多个标识;和控制器。控制器接收表示图像的数据;和依赖于所述数据控制辐射源的操作。

radiation source

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射源相关申请的交叉引用本申请要求于2017年9月20日提交的欧洲申请17192117.4的优先权,该欧洲申请通过引用全文并入本文。
本专利技术涉及一种用于与光刻设备一起使用的辐射源。
技术介绍
光刻设备是一种构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备能够例如用于集成电路(IC)的制造中。光刻设备可例如将来自图案形成装置(例如,掩模)的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。光刻设备用于将图案投影到衬底上的辐射波长决定了能够在该衬底上形成的特征的最小尺寸。使用EUV辐射(具有在4-20nm范围内的波长的电磁辐射)的光刻设备可用于在衬底上形成比常规光刻设备(所述常规光刻设备可以例如使用波长为193nm的电磁辐射)更小的特征。可以通过使用布置成产生产生EUV的等离子体的辐射源来产生EUV辐射。产生EUV的等离子体可以例如通过激励辐射源内的燃料产生。
技术实现思路
本专利技术的一方面涉及一种辐射源,包括:发射器,配置成朝向等离子体形成区发射燃料目标;激光系统,配置成用激光束撞击所述燃料目标以在所述等离子体形成区处产生等离子体;收集器,布置成收集由所述等离子体发射的辐射;成像系统,配置成捕获所述燃料目标的图像;在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的标识;和控制器,配置成接收表示所述图像的数据和依赖于所述数据控制所述辐射源的操作。术语“收集器”在这里与表述“辐射收集器”互换地使用。术语“发射器”在这里与表述“燃料发射器”互换地使用。此外,成像系统可以包括一个或更多个成像装置,例如一个或更多个照相机。特征“在收集器处的标识”指示在操作使用标识时标识和收集器之间的固定的空间关系,例如通过将标识安装在收集器处。成像系统可以包括一个或更多个成像装置,例如成像系统可以包括一个或更多个照相机。捕获标识结合燃料目标的图像实现了确定燃料目标和收集器之间的相对空间关系,或至少确定该相对空间关系的性质。例如,控制器可以配置成处理所述数据以确定燃料目标相对于收集器的位置。控制器可以配置成控制以下中的至少一个:通过调整燃料发射器的位置和/或方向的所述燃料目标的轨迹;所述激光束的位置和/或方向;所述收集器的位置和/或方向。以此方式,可以优化辐射源的操作。特别地,通过响应于第一图像而修改辐射源的至少一个部件的操作,可以比先前能达成的快得多地实现最佳等离子体产生和/或比先前能达成的维持更长的时间段的最佳等离子体产生。在实施例中,辐射源包括在所述收集器处并在成像系统的视场内的第二标识。因此,相对位置的附加性质能被确定。在实施例中,成像系统包括第一成像装置、第二成像装置、分束系统和背光源。背光源配置成用照射束照射燃料目标和标识。分束系统配置成接收被燃料目标影响的照射束的第一部分,并接收被标识影响的照射束的第二部分。分束系统还配置成将第一部分引导至第一成像装置,并将第二部分引导至第二成像装置。当第一成像装置和第二成像装置接收表示位于不同位置处的不同物理特征的照射束的不同部分时,第一成像装置和第二成像装置中的每个单独的一个成像装置能够独立地使得不同物理特征中的相关的一个物理特征处于聚焦。辐射源可以包括在收集器处和位于成像系统的视场内的第二标识,成像系统于是可以包括第三成像装置。背光源于是可以配置成也用照射束照射第二标识。分束系统于是配置成接收被第二标识影响的照射束的第三部分;并将第三部分引导至第三成像装置。在另一实施例中,辐射源包括:另一成像系统,配置成捕获燃料目标的另一图像;和在收集器处并位于另一成像系统的另一视场内的另一标识。先前提及的成像系统配置成从预定视角捕获燃料目标的图像,另一成像系统配置成从与所述预定视角不同的另一预定视角捕获燃料目标的另一图像。控制器配置成接收表示另一图像的另一数据;和依赖于所述另一数据控制辐射源的操作。辐射源可以包括在所述收集器处位于另一成像系统的另一视场内的另一第二标识。相应地,辐射源包括两个分支:具有成像系统的第一分支;和具有另一成像系统的第二分支,所述成像系统和另一成像系统从不同视角对燃料目标进行成像。因此,与通过使用仅从单个有利点执行成像的单个分支相比,能够提取出关于燃料目标和收集器之间的相对位置关系的更多信息。优选地,具有两个分支的辐射源在成像系统和另一成像系统中的每单独一个成像系统中包括单独的一对标识。标识可以包括一主体,所述主体实质上对于照射所述主体的照射束辐射不透明,以便产生在图像中表示的阴影。类似地,第二标识可以包括第二主体,所述第二主体实质上对于照射所述第二主体的照射束辐射不透明,以便产生在图像中表示的阴影。类似地,另一标识和第二标识中的任意一个或每一个还可以包括各自的主体,所述各自的主体实质上对于照射各自的主体的另一照射束辐射不透明,以便产生在另一图像中表示的阴影。照射束被引导成使得标识和第二标识中的任意一个或每一个至少部分地遮挡照射束。成像系统布置成使得成像系统能够检测到由照射束的路径中的相关的标识导致的阴影。例如,背光源和成像装置中的相关的一个成像装置可以布置成彼此相对,并具有横跨收集器的视线,其中标识布置在背光源和成像系统之间。可替代地,背光源和成像装置可以布置成靠近彼此,反射器或其它合适的光学元件可以被提供以经由反射器或其它光学装置将照射束引导至成像装置。由照射束入射到等离子体形成区附近的燃料目标导致的阴影也可以被成像装置检测到。主体和第二主体中的任意一个或每一个可以具有各自的孔,用于允许照射主体和第二主体的照射束的部分通过。类似的考虑可以适用于另一标识和第二标识的各自的主体,从而与第二分支的另一成像系统配合。可替代地,或结合上文介绍的主体的实施方式,标识和第二标识中的任意一个或每一个可以包括各自的十字线。如已知的,十字线是常常位于成像装置的焦点中的精细的线材或线。十字线被用作用于精确观察或瞄准的参考物。关于上文所述的分束系统:照射束的第一部分受燃料目标的存在影响,照射束的第二部分受标识影响。分束系统用于将照射束的第一部分引导至第一成像装置,并将第二部分引导至与第一成像装置不同的第二成像装置。在第二标识存在于收集器处的状况下,受第二标识的存在影响的照射束的第三部分被分束系统引导至第三成像装置,所述第三成像装置不同于第一成像装置和第二成像装置。为了使分束系统工作,分束系统必须能够区分第一部分、第二部分和第三部分。也就是,第一部分具有第一特性,第二部分具有不同于第一特性的第二特性,分束系统配置成在第一特性和第二特性的控制下区分第一部分和第二部分。类似地,在第二标识存在于控制器处并影响照射束的第三部分的状况下,第三部分具有不同于第一特性和第二特性的第三特性。第一特性可以包括照射束的照射辐射的第一波长,第二特性可以包括不同于第一波长的照射辐射的第二波长。如果第二标识存在,则第三特性可以包括不同于第一波长且不同于第二波长的第三波长。第一特性可以包括在分束系统上的第一入射部位,第二特性可以包括在分束系统上的第二入射部位,所述第二入射部位不同于第一入射部位。如果第二标识存在于收集器处,则第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种辐射源,包括:/n发射器,配置成朝向等离子体形成区发射燃料目标;/n激光系统,配置成用激光束撞击所述燃料目标以在所述等离子体形成区处产生等离子体;/n收集器,布置成收集由所述等离子体发射的辐射;/n成像系统,配置成捕获所述燃料目标的图像;/n在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的标识;以及/n控制器,配置成:/n接收表示所述图像的数据;和/n依赖于所述数据控制所述辐射源的操作。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170920 EP 17192117.41.一种辐射源,包括:
发射器,配置成朝向等离子体形成区发射燃料目标;
激光系统,配置成用激光束撞击所述燃料目标以在所述等离子体形成区处产生等离子体;
收集器,布置成收集由所述等离子体发射的辐射;
成像系统,配置成捕获所述燃料目标的图像;
在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的标识;以及
控制器,配置成:
接收表示所述图像的数据;和
依赖于所述数据控制所述辐射源的操作。


2.根据权利要求1所述的辐射源,包括在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的第二标识。


3.根据权利要求1所述的辐射源,其中:
所述成像系统包括第一成像装置、第二成像装置、分束系统和背光源;
所述背光源配置成用照射束照射所述燃料目标和所述标识;
所述分束系统配置成:
接收受所述燃料目标影响的所述照射束的第一部分;
接收受所述标识影响的所述照射束的第二部分;
将所述第一部分引导至所述第一成像装置;以及
将所述第二部分引导至所述第二成像装置。


4.根据权利要求3所述的辐射源,其中:
所述辐射源包括在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的第二标识;
所述成像系统包括第三成像装置;
所述背光源配置成用所述照射束照射所述第二标识;
所述分束系统配置成:
接收受所述第二标识影响的所述照射束的第三部分;和
将所述第三部分引导至所述第三成像装置。


5.根据权利要求1或3所述的辐射源,包括:
另一成像系统,配置成捕获所述燃料目标的另一图像;和
在所述收集器处并在所述另一成像系统的另一视场内的另一标识;
其中:
所述成像系统配置成从预定视角捕获所述燃料目标的图像;
所述另一成像系统配置成从不同于所述预定视角的另一预定视角捕获所述燃料目标的另一图像;
所述控制器配置成:
接收表示所述另一图像的另一数据;和
依赖于所述另一数据控制所述辐射源的操作。


6.根据权利要求5所述的辐射源,包括在所述收集器处并在所述另一成像系统的另一视场内的另一第二标识。


7.根据权利要求1、2、3、4、5或6所述的辐射源,其中所述控制器配置成处理所述数据以确定所述燃料目标相对于所述收集器的位置。


8.根据权利要求7所述的辐射源,其中所述控制器配置成控制以下中的至少一个:所述燃料目标的轨迹;所述激光束的位置;所述激光束的方向;所述收集器的位置...

【专利技术属性】
技术研发人员:R·L·唐克HK·尼恩惠斯
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:荷兰;NL

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